擴散爐工藝

更新時間：2020-11-23

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擴散爐是研制生產(chǎn)晶體管、可控硅和集成電路等半導體器件的工藝設備之一，主要用于擴散和氧化等工序。
擴散爐主要由控制部分、凈化部分、電阻加熱爐部門、氣路部分組成。控制部分主要控制進出舟，電阻加熱爐主要是控制擴散爐的溫度部分，氣路主要控制擴散源的流量及尾氣的排放量。
擴散爐的工藝控制軟件的使用為：按下“上電”按鈕，啟動計算機，雙擊“擴散監(jiān)控系統(tǒng)”圖標后啟動工藝控制軟件。輸入用戶名、密碼，即可登錄。
擴散爐的溫度設置主要由界面上有三個模擬溫度控制器圖形，分別對應擴散爐的三段溫度控制器。
擴散爐是一種能自動控制溫度的電阻爐。由溫度控制器、可控硅裝置和爐體構成。爐體由保溫材料、加熱絲和爐管組成。溫度控制器可控制裝置對爐溫進行自動控制，使爐膛溫度保持穩(wěn)定、均勻，以滿足工藝要求。

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